磁控溅射法纳米晶NiFe2O4薄膜的合成
项目编号：2019SJ055
项目级别：省级
项目类型：创新训练项目
项目成员：081740526孙德烨，081740511庄澔淼，081740203姬雪蕾，081840502王晶
指导教师:王丽丽
项目简介：NiFe2O4纳米材料是一种非常重要的软磁材料，在电极材料、催化剂、磁流体、电磁屏蔽及微波吸收等方面均有用处。由于其同时具有催化性和磁性，可以用来催化许多反应并且用过外加磁场回收利用，保证高的催化效率和高的回收利用率，因而具有非常好的应用前景。众所周知磁控溅射法具有适合大部分材料，所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好等特性，且符合当前实验室实验标准，能制作效果比较好的薄膜，因此我们有进行此项目的必要。
研究内容：用实验室现有设备，我们以磁控溅射法制备NiFe2O4薄膜，通过查阅相关文献准备相关靶材，在通过改变溅射功率、溅射压强、溅射时间等做出不同材料。再通过XRD、SEM、VSM对薄膜结构进行分析，最后通过以上表征手段，测试材料效果，寻找最佳参数制作方法。
创新之处：在制备NiFe2O4薄膜的过程中，对于制备出的薄膜的厚度均匀性、成膜质量以及溅射速率十分关注。而基片种类、降温时的实验条件、溅射功率、溅射压强、沉积温度和溅射时间等会对这些工艺的稳定性产生影响。我们将作出最佳参数的成品。
成果简介：2019年大学生创新创业项目省级级项目优秀结项、发表省论文《衬底温度对NiFe2O4薄膜生长和磁学性能的影响》、参与发表SCI《Graphene-BasedAntibacterial Films with Enhanced Mechanical Properties》
